DHPS系列直流溅射等离子体实验装置
装置采用同轴二极溅射结构,靶台和靶距离可调节,溅射基片可进行控温加热;
溅射气压、溅射气源流量可调节,可研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响
;反应腔体采用石英玻璃管,可直观地观察到溅射现象;工作气体可调节更换,
并可多路气体混合工作。可以完成光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量、金
属薄膜的制备等实验。
主要实验内容:
◆光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量;
◆金属薄膜的制备实验;
◆理解直流溅射原理,掌握直流溅射薄膜材料的工艺方法。
主要技术特点:
◆溅射靶台和溅射靶距离可调节,研究在不同距离时对薄膜溅射的影响;
◆溅射基片可进行加热,加热温度可控,研究基片温度对薄膜溅射的影响;
◆溅射气压、溅射气源流量可调节,研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响
◆反应腔体采用石英玻璃管,可直观地观察到溅射现象;
◆供电电源:AC 220V,50 Hz。高斯计特斯拉计
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