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解决方案 | 应用于半导体设备上的热门传感器(一)
发布时间:2022-07-26        浏览次数:1877        返回列表
 半导体匀胶显影机一般由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成,适用于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。

本期小明就来分享一下传感器在匀胶显影机中的作用~

1.2

检测水滴/胶滴

光纤传感器  PG1+ PT-30ML

 

 

  • 选用区域对射光纤,覆盖面积广,即使水滴路径有微小偏差依然在检测区域内,可被稳定检测
  • 功率大,光轴清晰明亮,可轻松调整光轴位置
  • 放大器搭载了超高速模式,微秒级响应时间,可稳定快速地进行检测
  • SET按键调试,使用简便轻松

 

 

2.2 

 

检测晶片位置

激光传感器  ELE-RM05N

 

 

  • 晶圆传送盒的颜色和形状变化所产生的光量值偏差很小,需要选择回归反射型传感器可进行稳定的测量,安装反光板,减少了布线烦恼
  • 光斑小,可将传感器装在外部,穿过孔洞对内部物料进行检测,轻松实现识别晶片倾斜/缺料等位置不正的情况
  • 激光的指向性佳,光斑小,便于安装

 

 

4.1 

 

控制憎水液位

液位传感器  CE30-26NO

 

 

 

  • 当槽管内存在气泡时,普通的光学传感器很可能造成误判
  • 产品防护等级IP67,防水防尘
  • 传感器固定方式灵活,可任意轻松移动检测位置

 

 

5.1 

 

匣盒载物台的下限检测

接近传感器  ESL-T50NO

 

 

 

  • 超薄尺寸,厚度仅有4mm,任意狭小空间均可安装
  • 采用对射检测原理,稳定可靠
  • 检测距离达50cm,任意大小的设备场景均可使用

 

企业微信截图_16557803575441

 

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